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【蘇州純水設(shè)備】半導體超純水系統(tǒng)的指標

半導體制造用水對電阻率的要求極高，需通過多重過濾、離子交換、除氣、反滲透、紫外線、超濾、納米濾、離子吸附等復雜工藝才能實現(xiàn)。

電阻率要求：

1、微電子工業(yè)用超純水：電阻率需要大于10 MΩ·cm以上。

2、超大規(guī)模集成電路用超純水的電阻率在18 MΩ·cm以上。

3、半導體芯片產(chǎn)業(yè)用超純水：電阻率一般在18.25 MΩ·cm。

其他水質(zhì)指標：

1、總有機碳（TOC）：小于1～10ppb45。

2、溶解氧（DO）：小于1～10ppb45。

3、微粒（0.05微米）：小于200個/升45。

4、離子含量：大多小于20～50PPT，且不得檢測到細菌45。

5、硼的脫除：硼是P型雜質(zhì)，過量會使n型硅反型，影響電子、空穴濃度，因此在超純水制備過程中需充分考慮硼的脫除。

6、溶解氧的去除：半導體行業(yè)對溶解氧（DO）的要求需小于1ppb，去除水中的溶解氧需保證容器和管道的嚴格氣密性，通常通過多級高性能脫氣膜來實現(xiàn)。蘇州反滲透純水設(shè)備 蘇州EDI超純水處理設(shè)備 蘇州工業(yè)純水設(shè)備 蘇州實驗室超純水設(shè)備 蘇州醫(yī)藥純化水設(shè)備