半導體超純水設備工藝流程
【蘇州純水設備】在半導體、芯片行業中對產線用水水質有很高的要求,同時超純水設備是否能安全穩定運行對產線來說也是至關重要的。下面簡明的對超純水設備工藝進行對比,根據用水要求以及現場實際情況選擇合理的方案。
1、原水→預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水點(≥15MΩ.CM)(傳統工藝)
2、原水→預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(傳統工藝)
3、原水→預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→二級反滲透→純水箱→純水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥17MΩ.CM)(最新工藝)
4、原水→預處理→一級反滲透→加藥機(PH調節)→中間水箱→二級反滲透→純水箱→純水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水點(≥18MΩ.CM)(最新工藝)蘇州反滲透純水設備 蘇州EDI純水處理設備 蘇州工業純水設備 蘇州超純水設備 蘇州實驗室純水設備 蘇州醫用純化水設備
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